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193nmレーザー用VUVカスタマイズ偏光板

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193nmレーザー用VUVカスタマイズ偏光板

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193nmレーザー用VUVカスタマイズ偏光板

当社のVUV（真空紫外線）カスタマイズ偏光子は、193nmで動作する高性能レーザーシステム向けに特別に設計されており、最も要求の厳しいDUV（深紫外線）アプリケーションにおいて比類のない精度と信頼性を実現します。高度な薄膜技術と超高純度材料を用いて製造されたこれらの偏光子は、最適な透過効率、卓越した耐損傷性、そして強力なレーザー照射下における長期安定性を保証します。

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