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193nmレーザー用VUVカスタム偏光子
当社のVUV(真空紫外)カスタム偏光子は、193nmで動作する高性能レーザーシステム向けに特別に設計されており、最も要求の厳しいDUV(深紫外)アプリケーションにおいて比類のない精度と信頼性を提供します。高度な薄膜技術と超高純度材料を用いて製造されたこれらの偏光子は、最適な透過効率、優れた耐損傷性、そして強力なレーザー照射下における長期安定性を保証します。
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