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193nm低次波長板

深紫外線波長板
193nm低次波長板

193nm 低順位 波長板深紫外線偏光デバイスであるDUV(深紫外線)偏光装置は、入射光の偏光状態を精密に調整します。リソグラフィーやレーザー研究などのDUVシステムに使用され、193nmの放射線耐性材料で作られているため、安定性と精度に優れています。

 

特徴:

厚さ: 0.1~0.5 mm

高いダメージ閾値

 

  • 商品番号 :

    WPL
  • 製品の原産地 :

    FuZhou
新製品

仕様:

材料:
石英
直径許容差:
+0.0、-0.1mm
波面歪み:
λ/8 @ 632.8nm
遅延許容度:
λ/50
並列処理:
<1秒角
表面品質:
20/10
クリアアパーチャ:
>90%
コーティング:
S1&S2: R<0.2% @ 波長
標準波長:
193.368nm

 

193nm 製品:

半波長板 P/N#
1/4波長板 P/N#
直径(mm)
WPL-210-193
WPL-410-193
10.0
WPL-212-193
WPL-412-193
12.7
WPL-215-193
WPL-415-193
15.0
WPL-220-193
WPL-420-193
20.0
WPL-225-193
WPL-425-193
25.4
WPL-230-193
WPL-430-193
30.0
WPL-235-193
WPL-435-193
35.0
WPL-250-193
WPL-450-193
50.0

 

193nmマルチオーダー波長板の技術的利点:
193nmマルチオーダー波長板は、深紫外線波長に合わせて最適化された複屈折材料とイオンビーム仕上げ技術を組み合わせることで、高い位相遅延を実現します。主な利点は、位相誤差に対する高い遅延精度です。 <193nmの波長で±1% — イオンビーム仕上げ技術の応用により、材料の光学厚さの微小偏差が大幅に減少し、エキシマレーザーなどの深紫外線レーザーシステムの偏光制御がより精密になります。コンパクトな構造により複雑なカスケード設計が不要になり、リソグラフィーシステムの統合型深紫外線光学モジュールに最適です。高いレーザー損傷閾値(193nmで>5 J/cm²)により、高出力深紫外線アプリケーションでの信頼性が確保されるとともに、イオンビーム仕上げで形成される超平滑な表面により、高エネルギーレーザー照射下での局所的なエネルギー蓄積のリスクがさらに低減します。深紫外線スペクトル偏光測定システムでは、イオンビーム仕上げによって確保される安定した位相遅延により、偏光度測定誤差が2%以内に抑えられ、フォトレジストの特性評価や大気オゾン層分光法などのシナリオで高精度の偏光分析が容易になります。

 

 

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