193nmグランレーザープリズム 高い光学均一性を備えたEUV結晶を使用し、狭帯域における優れた偏光安定性を特徴としています。精密パッケージングにより光路偏差を低減し、高精度な深紫外線レーザー検出に適しています。
特徴： エアスペース ブリュースター角カットに近い 高い偏光純度 脱出窓付き 高出力アプリケーションに適しています |
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商品番号 :
GLP-193製品の原産地 :
FuZhou仕様:
| 材料： | EUVクリスタル |
| 波長範囲: | 193.368nm |
| 消光比: | <1x10-4 |
| 並列処理: | <1弧分 |
| 表面品質: | 20/10 |
| ビーム偏向: | < 3分角 |
| 波形歪み: | λ/4@632.8nm |
| ダメージ閾値: | >500 MW/cm2 |
193nmグランレーザー偏光子
| 部品番号 | 波長範囲(nm) | 消光比 | 角度視野(°) | CA fa(mm) | 外径 fd(mm) | 長さ±0.1(mm) |
| GLP4006 | 193.368 | <5x10-6 | >6.0 | 6.0 | 15.0 | 29.0 |
| GLP4008 | 8.0 | 25.4 | 31.0 | |||
| GLP4010 | 10.0 | 25.4 | 31.0 | |||
| GLP4015 | 15.0 | 30.0 | 38.6 | |||
| GLP4020 | 20.0 | 38.0 | 48.9 |
技術的な利点 193nmグランレーザー偏光子：
193nmグランレーザー偏光子の技術的利点は、高い偏光純度により、広角入射下でも安定した性能を維持することです。優れた熱安定性を備え、広い温度範囲で光学的変動を最小限に抑えます。強力なレーザー損傷耐性により、高出力深紫外線（DUV）用途にも適しています。DUV光学系との互換性があり、設置も容易なため、リソグラフィーやレーザー検出といった高精度のニーズに的確に対応します。
193nm グランテイラー偏光子 エアギャップで分離されたα-BBO複屈折結晶を用いることで、深紫外線領域における接着材料による吸収の問題を排除します。単層MgF₂反射防止コーティングは、優れた消光性能を維持しながら、193nmにおける高い透過率を実現します。高いレーザー損傷閾値を備えており、ArFエキシマレーザーリソグラフィーや深紫外線レーザー加工などの用途における高精度な偏光制御に最適です。 特徴： エアスペース ブリュースター角カットに近い 高い偏光純度 深紫外線透過率
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193nmグランレーザープリズム 高い光学均一性を備えたEUV結晶を使用し、狭帯域における優れた偏光安定性を特徴としています。精密パッケージングにより光路偏差を低減し、高精度な深紫外線レーザー検出に適しています。 特徴：エアスペースブリュースター角カットに近い高い偏光純度脱出窓付き高出力アプリケーションに適しています
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ロション偏光板 ウォラストン偏光子のように入射ビームを常光線と異常光線に分離しますが、異常光線はそのまま透過しますが、常光線は偏角をつけて透過します。 特徴： 光学的に接触 高い偏光純度 低電力または高電力アプリケーションに適しています
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193nm 低順位 波長板深紫外線偏光デバイスであるDUV（深紫外線）偏光装置は、入射光の偏光状態を精密に調整します。リソグラフィーやレーザー研究などのDUVシステムに使用され、193nmの放射線耐性材料で作られているため、安定性と精度に優れています。 特徴： 厚さ: 0.1～0.5 mm 高いダメージ閾値
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193nmエアスペースゼロオーダー波長板は、接着層がなく、強力な構造安定性と耐老化性を備えています。石英は深紫外線腐食に耐性があり、高出力レーザーの連続運転に適しており、安定した偏光制御が可能です。 特徴：エアスペース厚さ0.3～1.5mm高ダメージ閾値ARコーティングおよびマウント
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VUVレーザー用カスタマイズ偏光子シリーズは、193.368nmの波長で動作し、160～250nmの波長範囲をカバーします。本シリーズには、VUV薄結晶偏光子、ロション偏光子、グラン偏光子、VUV広視野角波長板などが含まれており、様々なレーザー応用シナリオに適しています。高い精度と信頼性により、真空紫外線レーザー分野に専門的な偏光ソリューションを提供します。科学研究用途から産業用途まで、お客様の光学部品に対する厳しい要件を満たすことができます。ご要望がございましたら、お気軽にお問い合わせください。
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